レジオネラ菌対策の業務用での実際例写真Spot1
問題はすべて解決されました。
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実施例@
施 工 日 平成15年6月
施 設 神奈川県内温泉施設H
泉 質 ナトリウム・カルシウム・塩化物泉
pH値 9.1
総保有水量 85t
遊離残留塩素濃度 1.5〜2.5mg/L
レジオネラ属菌 洗浄前 10,800CFU/100ml
洗浄後 10CFU未満/100ml
この施設はpHが9.1〜9.2のため、
次亜塩素酸ナトリウムでの効果が極端に低下するため、
大変高い残留塩素濃度となっています。
それでもレジオネラ属菌が検出され対応に苦慮していました。
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実施例A
施 工 日 平成15年9月
施 設 埼玉県内老人施設M
泉 質 水道水
pH値
総保有水量 10t
右図のような麦飯石+糸巻フィルター+オゾンタイプの濾過殺菌装置
レジオネラ属菌 洗浄前 13,500CFU/100ml
洗浄後 10CFU未満/100ml
麦飯石+糸巻フィルターの濾過器使用中、
オゾン殺菌の効果もなくレジオネラ属菌を検出。

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実施例B
施 工 日 平成15年11月
施 設 千葉県内源泉施設H
泉 質 塩化物泉
pH値
総保有水量 40t
遊離残留塩素濃度
レジオネラ属菌
レジオネラ属菌が検出されたため、
保健所からの紹介で施設より依頼があり、
当溶剤で、源泉タンク内外の洗浄、清掃を行い、供給配管内の洗浄を行う。
洗浄後はレジオネラ属菌は検出されなかった。
アメーバが多量に発生し壁面等にバイオフィルムの形成が多く見られました。 
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■実施例C
施 工 日 平成12年6月
施 設 東京都内スーパー銭湯O
泉 質 水道水
pH値
総保有水量 60t
遊離残留塩素濃度 0.5〜0.8mg/L
レジオネラ属菌 洗浄前 800CFU/100ml
洗浄後 10CFU未満/100ml
定期注入として当溶剤を10ppm/t併用注入し、
6ヶ月後もレジオネラ属菌については不検出、
現在も継続中、年2回クリーニングを行っている。

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